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黃金時代新科技

超越半導體製程的極限:極紫外光微影(二集之二)

韓國
2018-11-03

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今後幾年晶片的應用會持續擴張,晶片的需求也會不斷成長,而傳統的193奈米微影技術已達到極限,必須以13.5奈米極紫外光技術替代。極紫外光微影是在半导体业历史上公认的最难做到完美的一项技术,其艰辛程度可比NASA的登月计画。
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